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磷化铟
(CAS No.
22398-80-7
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中文名称:
磷化铟
中文别名:
磷化铟晶体INP;磷化铟(III);磷化铟, 99.9999% (METALS BASIS);磷化铟, 多晶块, 99.99% (METALS BASIS);磷化铟, 99.999% (METALS BASIS);磷化铟, 多晶块;磷化铟(III), 99.9999% (METALS BASIS);磷化铟粉
英文名称:
Indium phosphide
英文别名:
InP;metel basisINDIUM PHOSPHIDE;INDIUM(III) PHOSPHIDE;Phosphinetriylindium(III);Phosphinidyneindium(III);Indium phosphide/ 99.999%;Indium phosphide (99.999%-In) PURATREM;Indium phosphide wafer
CAS:
22398-80-7
EINECS:
244-959-5
分子式:
InP
分子量:
145.79
分子结构:
危险标志:
风险术语:
-
安全术语:
避免接触皮肤、避免接触眼睛、如果发生事故或感到不适,请就医立即提出建议(如有可能,展示标签)、避免接触-使用前获得特殊说明
物化性质:
磷化铟具有沥青光泽的深灰色晶体。熔点1070℃。熔点下离解压为2.75 Mpa。极微溶于无机酸。介电常数:10.8。电子迁移率:约4600 cm2/V?s。空穴迁移率:约150 cm2/V?s。具有半导体的特性。
磷化铟是重要的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料之一,是继硅(Si)、砷化镓(GaAs)之后的新一代微电子、光电子功能材料,其因电子迁移率高、禁带宽度大等特点,被广泛应用于微波及光电器件领域。
熔点:
1070°C
相对密度:
4,787 g/cm
3
溶解性:
Insoluble in water.
用途:
用作半导体材料,用于光纤通讯技术,需要1.1~1.6μm范围内的光源和接受器。在 InP衬底上生长In-GaAsP双异质结激光器既能满足晶格匹配,又能满足波长范围的要求。
上游原料:
三氯化磷,石英砂,高纯,电子,铟
下游产品:
-