中文名称:氧化镓
中文别名:氧化镓(IV), 99.999% (METALS BASIS);氧化镓 (METALS BASIS);氧化镓(III);氧化镓, 99.999% (METALS BASIS);氧化镓, PURATRONIC|R, 99.999% (METALS BASIS);氧化镓, 99.995% (METALS BASIS);氧化镓, 99.99% (METALS BASIS);氧化镓, PURATRONIC, 99.999% (METALS BASIS)
英文名称:Gallium(III) oxide
英文别名:galliumtrioxide;Gallium(III) oxide (99.999% Ga) PURATREM;Galliumoxidewhitepowder;GalliuM(III) oxide >=99.99% trace Metals basis;Gallium(III) oxide (Ga2O3);Gallium(III) oxide, 99.999% trace metals basis;Gallium(Ⅲ) oxide;GalliuM(Ⅵ) oxide
CAS:12024-21-4
EINECS:234-691-7
分子式:Ga2O3
分子量:187.44
分子结构:
危险标志:-
风险术语:-
安全术语:避免接触皮肤、避免接触眼睛
物化性质:-
熔点:1740 °C
相对密度:6.44 g/mL at 25 °C
溶解性:Soluble in acids. Insoluble in water
用途:氧化镓可以作为科研试剂,用于生化研究;可用于Ga基半导体材料的绝缘层以及紫外线滤光片;可用作半导体材料,用于光谱分析测定铀中杂质;它也可以用来制取钆镓石榴石、催化剂、化学试剂等 ,制备 Sr2CuGaO3S(稀有方锥体镓的例子)时的原料。
上游原料:氯化镓,镓,硝酸,氢氧化铵
下游产品:-