中文名称:氧化铟锡

中文别名:氧化铟锡, NANOTEK|R, 99.5%;氧化铟锡, 91:9 W/W, 99.997%;氧化铟锡, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡, VACUUM DEPOSITION GRADE, 99.99% (METALS BASIS);氧化铟锡(ITO);氧化铟锡(铟锡氧化物);氧化铟锡 100G;氧化铟锡溅射靶, 50.8MM (2.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.99% (METALS BASIS)

英文名称:Indium tin oxide

英文别名:ITO;INDIUM TIN OXIDE;indium tin oxide, 3mm-12mm pieces, 91:9 w/w;indium tin oxide, dispersion;indium tin oxide, vacuum deposition grade;ito coated slide;Indium stannic oxide;Indium tin oxide, 99.5% min (metals basis)

CAS:50926-11-9

EINECS:-

分子式:In2O5Sn

分子量:428.34

分子结构:

危险标志:-

风险术语:-

安全术语:-

物化性质:-

熔点:287℃

相对密度:1.2 g/mL at 25 °C(lit.)

溶解性:Insoluble in water.

用途:氧化铟锡主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸等应用、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。

上游原料:-

下游产品:聚吡咯-聚氯乙烯复合膜